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      實驗室光刻機

      簡要描述:實驗室光刻機參數:1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um。3.對準精度:±1-1.5um。4.光源強度:35mW/cm2。5.UV光源:進口LED模塊。

      • 所在城市:無錫市
      • 廠商性質:生產廠家
      • 更新日期:2025-02-11
      • 訪  問  量:611

      詳細介紹

        實驗室光刻機產品參數 :
       
        1.曝光面積:160mm*160mm
       
        2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
       
        3.對準精度:±1-1.5um
       
        4.光源強度:35mW/cm2
       
        5.UV光源:進口LED模塊
       
        6.曝光中心波長:365nm
       
        7.光源壽命:1萬小時,光源平行性:≤2°
       
        8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
       
        9.照度不均勻性:≤3%
       
        10.曝光設定:定時
       
        11.可執行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
       
        12.間隙設定方式:數字設定曝光間隙0-1200um
       
        13.可調,可自動分離和消除間隙
       
        14.樣片、掩模版相對移動范圍:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
       
        15.掩模版找平方式:球氣浮自動找平
       
        16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
       
        17.標配承片臺:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
       
        18.標準配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
       
        19.對準系統:光學+CCD,顯微倍數:放大倍率:150倍-720倍可調
       
        20.雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm

       

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      • 聯系人:陸燕
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      • 郵箱:lu.yan@leboscience.cn
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